OPTIMIZACIÓN DE LA REMOCIÓN DE COMPUESTOS ORGÁNICOS PERSISTENTES MEDIANTE EL PROCESO FOTO-FENTON

  • César Gutiérrez Autor
  • Alex Pilco Autor
Palabras clave: Foto-Fenton, agua residual textil, diseño de experimentos, emanda química de oxígeno

Resumen

La metodología de superficie de respuesta se aplicó para evaluar la condición óptima experimental a fin de remover los compuestos orgánicos persistentes de un agua residual textil sintética usando un reactor fotoquímico en lote a escala laboratorio. Cuatro factores a tres niveles fueron estudiados: relación de reactivos Fenton H2O2/Fe2+ (11,25, 18,75, 26,25 mg/L/mg/L), potencia de lámpara UV (4, 11, 18 W), pH (2, 3, 4) y tiempo de tratamiento (60, 120, 180 min). Los niveles óptimos encontrados para los cuatro factores fueron: relación de reactivos Fenton H2O2/Fe2+ igual a 17 mg/L/mg/L, potencia de lámpara UV igual a 4 W, pH igual a 3 y tiempo de tratamiento de 180 min. Se encontró que el proceso foto-Fenton es muy efectivo para tratar el agua residual textil sintética, encontrándose una remoción de un 86 %, respecto al DQO.

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Biografía del autor/a

César Gutiérrez, Autor

Facultad de Ingeniería Química, Universidad Nacional del Callao, Av. Juan Pablo II 306, Callao 2, Perú,

Alex Pilco, Autor

Facultad de Ingeniería Química y Textil, Universidad Nacional de Ingeniería

Publicado
2020-03-31