CONDICIONES ÓPTIMAS PARA OXIDAR FENOL EN AGUA VÍA LOS PROCESOS FENTON Y FOTO-FENTON

  • H. A. Blas López
  • G. H. Lopes
  • C. E. Flores Barreda
  • P. A. Pantoja
  • A. C. Silva Costa Teixeira
DOI: https://doi.org/10.37761/rsqp.v83i4.216
Palabras clave: Oxidación avanzada, Fenton, fotocatálisis, contaminantes orgánicos, aguas residuales, fenol

Resumen

Fenol puede ser degradado a casi 100 % en pocos minutos vía los procesos Fenton y fotoFenton. Su degradación y la relación entre las concentraciones molares iniciales de oxidante y catalizador utilizadas aumentan en sentidos inversos, y una relación de 38,4 fue óptima para soluciones acuosas contaminadas con 20 ppm de fenol. Asimismo, el uso de luz ultravioleta del tipo A aumentó la degradación comparado a menores longitudes de onda.

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Biografía del autor/a

H. A. Blas López

Department of Chemical Engineering, Universidad de Ingeniería y Tecnología (UTEC), Jr. Medrano Silva 165, Barranco, Lima 04, Peru.

G. H. Lopes

Department of Chemical Engineering, Universidad de Ingeniería y Tecnología (UTEC), Jr. Medrano Silva 165, Barranco, Lima 04, Peru.

C. E. Flores Barreda

Department of Chemical Engineering, Universidad de Ingeniería y Tecnología (UTEC), Jr. Medrano Silva 165, Barranco, Lima 04, Peru.

P. A. Pantoja

Department of Chemical Engineering, Universidad de Ingeniería y Tecnología (UTEC), Jr. Medrano Silva 165, Barranco, Lima 04, Peru.

A. C. Silva Costa Teixeira

Department of Chemical Engineering, Polytechnic School, Universidade de São Paulo (USP), Av. Professor Luciano Gualberto, Travessa 3, 380, São Paulo/SP 05508-900, Brazil.

Publicado
2017-12-31
Número
Vol. 83 Núm. 4 (2017): Revista de la Sociedad Química Del Perú
Sección
Artículos

Derechos de autor 2017 Sociedad Química del Perú

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